В ИРЭ им. В.А. Котельникова РАН функционирует система электронно-лучевой литографии Raith e_LiNE для изготовления структур субмикронных размеров. Система электронной литографии объединяет в себе сканирующий электронный микроскоп (произведенный компанией Carl Zeiss с использованием колонны для формирования электронного пучка Gemini) и систему электронной литографии производства Raith (состоящей из лазерной интерферометрической платформы и цифро-аналогового преобразователя для управления отклонением электронного луча). Размер электронного пучка составляет 2 нм для ускоряющего напряжения 20 кВ. Минимальный размер структуры для резиста с ультравысоким разрешением HSQ составляет 20 нм. Система электронной литографии Raith e_LiNE может использоваться как для исследования топографии и электронных свойств микро- и нанообъектов, так и для создания объектов с предельными размерами ~20 нм в режиме прямой литографии и в режиме создания фотошаблонов.
Основные параметры установки электронной литографии Raith e_Line:
Телефон: +7(495)6293418