Методика изготовления однобарьерных туннельных переходов сверхпроводник-изолятор-сверхпроводник
Методика изготовления многослойных интегральных сверхпроводниковых микросхем
Методика изготовления фотошаблона с помощью электронного микроскопа с системой электронной литографии e_LiNE производства компании Raith
Методические рекомендации по плазмохимическому травлению микроструктур с использованием оборудования УНУ Криоинтеграл
Методические рекомендации по проведению ультрафиолетовой литографии с использованием оборудования УНУ Криоинтеграл
Методические рекомендации по определению электрофизических характеристик сверхпроводниковых структур по постоянному току с использованием оборудования УНУ Криоинтеграл
Телефон: +7(495)6293418