Методики - Лаборатория сверхпроводниковых устройств для приема и обработки информации

Перейти к контенту

Главное меню:

УНУ
Методика изготовления однобарьерных туннельных переходов сверхпроводник-изолятор-сверхпроводник:
Методика изготовления многослойных интегральных сверхпроводниковых микросхем:

    Методика изготовления фотошаблона с помощью электронного микроскопа с  системой электронной литографии e_LiNE производства компании Raith:

       
      ИРЭ им. В.А. Котельникова РАН
      Назад к содержимому | Назад к главному меню